Ang paspas nga pag-uswag sa natad sa kasayuran ug optoelectronics nagpasiugda sa padayon nga pag-update sa teknolohiya sa kemikal nga mekanikal nga polishing (CMP).Dugang pa sa mga ekipo ug mga materyales, ang pag-angkon sa mga ultra-high-precision nga mga ibabaw mas nagsalig sa disenyo ug industriyal nga produksyon sa mga high-efficiency nga abrasive nga mga partikulo, ingon man ang pag-andam sa katugbang nga polishing slurry.Ug sa padayon nga pag-uswag sa katukma sa pagproseso sa nawong ug mga kinahanglanon sa kahusayan, ang mga kinahanglanon alang sa mga high-efficiency nga polishing nga mga materyales usab nagkataas ug mas taas.Ang Cerium dioxide kaylap nga gigamit sa precision machining sa nawong sa mga microelectronic device ug precision optical components.
Ang cerium oxide polishing powder (VK-Ce01) polishing powder adunay mga bentaha sa lig-on nga abilidad sa pagputol, taas nga polishing efficiency, taas nga polishing accuracy, maayo nga polishing nga kalidad, limpyo nga operating environment, ubos nga polusyon, taas nga serbisyo sa kinabuhi, ug uban pa, ug kaylap nga gigamit sa optical precision polishing ug CMP, ug uban pa uma nag-okupar sa usa ka hilabihan ka importante nga posisyon.
Panguna nga mga kabtangan sa cerium oxide:
Ang Ceria, nailhan usab nga cerium oxide, usa ka oxide sa cerium.Niini nga panahon, ang valence sa cerium mao ang +4, ug ang kemikal nga pormula mao ang CeO2.Ang lunsay nga produkto puti nga bug-at nga pulbos o kubiko nga kristal, ug ang dili putli nga produkto mao ang kahayag nga dalag o bisan pink ngadto sa pula nga brown nga pulbos (tungod kay kini adunay mga pagsubay nga kantidad sa lanthanum, praseodymium, ug uban pa).Sa temperatura ug presyur sa kwarto, ang ceria usa ka lig-on nga oxide sa cerium.Ang Cerium mahimo usab nga maporma ang +3 valence Ce2O3, nga dili lig-on ug mahimong lig-on nga CeO2 nga adunay O2.Ang cerium oxide gamay nga matunaw sa tubig, alkali ug acid.Ang Densidad mao ang 7.132 g/cm3, ang natunaw nga punto mao ang 2600 ℃, ug ang Nagabukal nga punto mao ang 3500 ℃.
Ang mekanismo sa pagpasinaw sa cerium oxide
Ang katig-a sa mga partikulo sa CeO2 dili taas.Sama sa gipakita sa lamesa sa ubos, ang katig-a sa cerium oxide mas ubos kaysa sa diamante ug aluminum oxide, ug mas ubos usab kay sa zirconium oxide ug silicon oxide, nga katumbas sa ferric oxide.Busa dili teknikal nga mahimo ang pag-depolish sa silicon oxide-based nga mga materyales, sama sa silicate glass, quartz glass, ug uban pa, nga adunay ceria nga ubos ang kagahi gikan sa mekanikal nga punto sa panglantaw lamang.Bisan pa, ang cerium oxide sa pagkakaron ang gipalabi nga polishing powder alang sa pagpasinaw sa silicon oxide-based nga mga materyales o bisan sa silicon nitride nga mga materyales.Kini makita nga ang cerium oxide polishing usab adunay uban nga mga epekto gawas sa mekanikal nga mga epekto.Ang katig-a sa diamante, nga usa ka sagad nga gigamit nga paggaling ug pagpasinaw nga materyal, kasagaran adunay mga bakanteng oxygen sa CeO2 lattice, nga nagbag-o sa pisikal ug kemikal nga mga kabtangan niini ug adunay usa ka piho nga epekto sa mga kabtangan sa pagpasinaw.Ang sagad nga gigamit nga cerium oxide polishing powders adunay usa ka piho nga kantidad sa ubang mga talagsaon nga yuta oxides.Ang Praseodymium oxide (Pr6O11) usab adunay usa ka face-centered cubic lattice structure, nga angay alang sa pagpasinaw, samtang ang ubang lanthanide rare earth oxides walay abilidad sa pagpasinaw.Kung wala’y pagbag-o sa istruktura sa kristal sa CeO2, mahimo’g maporma ang usa ka solidong solusyon niini sa sulod sa usa ka piho nga sakup.Alang sa high-purity nano-cerium oxide polishing powder (VK-Ce01), mas taas ang kaputli sa cerium oxide (VK-Ce01), mas dako ang polishing abilidad ug mas taas nga serbisyo sa kinabuhi, ilabi na alang sa gahi nga bildo ug quartz optical lens alang sa usa ka dugay na.Sa diha nga cyclic polishing, kini mao ang advisable sa paggamit sa high-purity cerium oxide polishing powder (VK-Ce01).
Paggamit sa cerium oxide polishing powder:
Cerium oxide polishing powder (VK-Ce01), nag-una nga gigamit alang sa polishing bildo nga mga produkto, kini mao ang nag-una nga gigamit sa mosunod nga mga uma:
1. Mga baso, pagpasinaw sa lente sa bildo;
2. Optical lens, optical glass, lens, ug uban pa;
3. Ang bildo sa screen sa mobile phone, nawong sa relo (watch door), ug uban pa;
4. LCD monitor sa tanang matang sa LCD screen;
5. Rhinestones, init nga diamante (mga kard, diamante sa maong), mga bola sa suga (luxury chandelier sa dako nga hawanan);
6. Mga buhat sa kristal;
7. Partial nga pagpasinaw sa jade
Ang kasamtangan nga cerium oxide polishing derivatives:
Ang nawong sa cerium oxide gi-doped sa aluminum aron mapalambo ang pagpasinaw niini sa optical glass.
Ang Technology Research and Development Department sa UrbanMines Tech.Limitado, gisugyot nga ang pag-compound ug pagbag-o sa nawong sa mga partikulo sa pagpasinaw mao ang mga nag-unang pamaagi ug pamaagi aron mapauswag ang kahusayan ug katukma sa pagpasinaw sa CMP.Tungod kay ang mga kabtangan sa partikulo mahimong ma-tune pinaagi sa pag-compound sa multi-component nga mga elemento, ug ang pagkatibulaag nga kalig-on ug polishing efficiency sa polishing slurry mahimong mapauswag pinaagi sa pagbag-o sa nawong.Ang pag-andam ug pagpasinaw sa performance sa CeO2 powder doped uban sa TiO2 makapauswag sa polishing efficiency sa labaw pa sa 50%, ug sa samang higayon, ang mga depekto sa nawong usab mikunhod sa 80%.Ang synergistic polishing epekto sa CeO2 ZrO2 ug SiO2 2CeO2 composite oxides;busa, ang teknolohiya sa pag-andam sa doped ceria micro-nano composite oxides adunay dakong kahulogan alang sa pagpalambo sa bag-ong polishing nga mga materyales ug sa paghisgot sa polishing mekanismo.Gawas pa sa kantidad sa doping, ang estado ug pag-apod-apod sa dopant sa mga synthesized nga mga partikulo dako usab nga nakaapekto sa ilang mga kabtangan sa nawong ug pasundayag sa pagpasinaw.
Lakip kanila, ang synthesis sa polishing nga mga partikulo nga adunay cladding nga istruktura mas madanihon.Busa, ang pagpili sa mga sintetikong pamaagi ug kondisyon importante usab, ilabina kadtong mga pamaagi nga yano ug epektibo sa gasto.Gigamit ang hydrated cerium carbonate isip nag-unang hilaw nga materyal, ang aluminum-doped cerium oxide polishing particles gi-synthesize pinaagi sa basa nga solid-phase mechanochemical method.Ubos sa aksyon sa mekanikal nga pwersa, ang dagkong mga partikulo sa hydrated cerium carbonate mahimong mabuak ngadto sa maayong mga partikulo, samtang ang aluminum nitrate mo-react sa ammonia nga tubig aron mahimong amorphous colloidal particle.Ang mga partikulo sa colloidal dali nga gilakip sa mga partikulo sa cerium carbonate, ug pagkahuman sa pagpauga ug pag-calcination, ang aluminum doping mahimong makab-ot sa ibabaw sa cerium oxide.Kini nga pamaagi gigamit sa pag-synthesize sa mga partikulo sa cerium oxide nga adunay lainlaing kantidad sa aluminum doping, ug ang ilang pagpasinaw nga performance gihulagway.Pagkahuman sa usa ka angay nga kantidad sa aluminyo idugang sa nawong sa mga partikulo sa cerium oxide, ang negatibo nga kantidad sa potensyal sa nawong modaghan, nga sa baylo naghimo sa gintang tali sa mga abrasive nga partikulo.Adunay mas lig-on nga electrostatic repulsion, nga nagpasiugda sa pagpalambo sa abrasive suspension kalig-on.Sa parehas nga oras, ang us aka adsorption tali sa mga abrasive nga mga partikulo ug ang positibo nga gikarga nga humok nga layer pinaagi sa atraksyon sa Coulomb mapalig-on usab, nga mapuslanon sa us aka pagkontak tali sa abrasive ug humok nga layer sa nawong sa gipasinaw nga baso, ug nagpasiugda ang pag-uswag sa polishing rate.